石墨烯它一种半导体资料，它的功能是十分优异的，比硅的特性要好的很多，电子在石墨烯中的运转速度能够达到光速的1/300，比在其他介质中的运转速度不能低反而要高出十分多，并且产出的热量并不是很多。

这一点毋庸置疑便是石墨烯的发展前景是十分好的，但这些功能都是根据其微观的纳米标准，如果直接用将会是十分大的困难。所以面对这样的困难，把纳米标准的石墨烯制备成宏观的薄膜资料并且保持其纳米效应。采用化学还原氧化石墨烯并采用真空抽滤的办法制备石墨烯薄膜，结果显示用该办法制备的20微米薄膜，合适大规模工业制备。

与此同时，针对石墨烯薄膜与二氧化硅界面接触热阻大的困扰，怎么处理这中困扰呢便是采用在石墨烯薄膜与二氧化硅界面引入功能化分子的办法。这种办法能够把困扰的难度降到最低。