1.石墨烯图像消融

　　在厚度上只需一个或许少数几个原子单层时，石墨烯在较宽的电磁频谱窗口的光吸收性也相对较高。对单层悬浮石墨烯来讲，可见光的这种数值可以准确到2.3%。此外，衬底上的石墨烯可以依据衬底的性质和界面供应高达10倍的光吸收性。在运用具有十分高的光子密度的超快激光器时，可以进一步进步光吸收性。这样一来就能供应更准确高效的石墨烯消融。

    电子运用一般需求石墨烯放置在硅衬底热生长氧化硅上。在这种情况下，石墨烯的高效吸收特功可以完结硅或氧化硅无损石墨烯消融。

　　由于石墨烯的原子级厚度，可以通过单次消融法削减处理时间。进而完结1μm或许更小标准设备，此外还能通过激光诱导多光子加工法完结次波长分辨率。

　　2.石墨烯与激光辐照

　　在曩昔十年，石墨烯现已引起了巨大的颤动。由于其共同的性质，使其广泛被用于各种运用，包括光子、光电、传感器、化学反应以及动力存储等。现已对于石墨烯技术开发了不一样的处理技术，但首要都是依据硅的微电子惯例处理办法。激光加工刚刚开始被用于石墨烯设备的开发，可是现已闪现出了其巨大的潜力。激光束可用于不一样类型石墨烯的处理，包括激光辅佐石墨烯生长（LIG，碳化硅和聚酰亚胺）、不一样衬底图像消融、乃至是化学改性（氧化和功用化；如下图）。这些进程可用于不一样光电、光子以及纳米机电系统（NEMS）设备的直接结合。

超快激光器用于石墨烯的化学和物理处理

　　超快激光器可以通过单一进程的激光直写取代多进程光刻；这样一来，可以防止通过湿法技术在表面构成的任何杂质。

　　3.石墨烯的光化学处理

　　材料表面的光化学处理尽人皆知，使用光辐照（一般是紫外光），通过内部相变或许与周围环境（气体、蒸汽和液体等）的化学反应来改动材料的功用。激光加工进程运用最广的光化学处理法是通过激光辐照多光子聚合的增材制造技术。这为聚合物和复合材料的3D化学加工供应了一个共同的流程。这种办法相同适用于碳基石墨烯，可以通过剧烈的紫外光氧化进行化学加工。

　　石墨烯的其他新特性正在进行研究，可以通过使用激光加工在新的微电子渠道对石墨烯结合供应可拓展的、迅速、可重复的无杂质技术。

在微观纳米电子设备包括光伏、闪现器、传感器或许大型有机电子器件的开发和制造进程中，超快激光器（皮秒和飞秒）被广泛用于薄膜构图。

　　超快激光器的首要长处是其有限的热效应和迅速能量散失，然后完结凌乱的多层结构超薄膜的构图。

　　行将到来的纳米材料年代也将带来超快、高效微型化设备。可是处理这些新式纳米材料，准确至单原子层，具有极大的技术艰难。下面就介绍了超快激光器图像化用于二维碳晶格即石墨烯的原子级运用。