真空炉内的温度分布

  石墨加热元件在加热室两侧的布置特别适用于高真空炉。在高真空环境下，两侧加热元件产生的热辐射区域可以均匀加热工件。当炉温为400-1300℃时，加热区各点温差可达5 K..20世纪60年代以前，温度控制是热处理技术的主要问题之一。后来因为电子温控技术的出现，这个问题得到了解决。目前，从温度分布的角度来看，热区温度分布的准确性是一个重要的问题。我们几乎总是优先考虑可以确保结构中温度均匀的热区。由于某种原因，随着保温时间的延长，热区暂时的温度不均匀会消失。相反，温度较高或较低的热区将在整个热处理过程中产生有害影响。我们将介绍在这方面有效的真空炉结构，其温度梯度低于0.01K/cm。真空炉除了温度均匀外，还有其他优点。能耗少，完全避免了有毒材料的使用，加热和材料放气产生的烟尘对环境的污染，完美解决了材料表面氧化或扭曲的问题。由于这些优点，真空炉已成为当前热处理工艺中不可缺少的条件。真空中的传热从传热的角度来看，真空起着双重作用。